NMC-3000等離子輔助MOCVD系統：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個鼓泡裝置（各帶獨立的冷卻槽）、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵（5 x 10-7Torr極限真空）、PC全自動控制。

等離子輔助MOCVD技術

NMC-3000等離子輔助MOCVD概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動控制，*的安全互鎖。

目前，這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統，該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。

NMC-3000等離子輔助MOCVD應用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

NMC-3000等離子輔助MOCVD系統特點：

• 臺式系統
• 5個帶獨立冷卻槽的起泡器
• 加熱的氣體管路
• 950 °C樣品臺，2”晶圓片
• 3個氣體環
• RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
• 工藝完成后N2自動沖洗
• 極限真空5x10-7Torr
• 260 l/s的渦輪分子泵串接無油干泵
• 通過LabView軟件實現PC計算機全自動控制
• 菜單驅動，4級密碼訪問控制
• 完整的安全聯鎖